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Product Center當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心材料樣品處理等離子清洗機KT-Z2DQX等離子清洗機 鄭科探廠家
等離子清洗機 鄭科探廠家主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實驗等
品牌 | 鄭科探 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
等離子清洗機 鄭科探廠家作為一種微觀固體表面的處理設(shè)設(shè)備,是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性"組分包括:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)復(fù)制態(tài))、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔等目的。
等離子清洗機 鄭科探廠家主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實驗等。
內(nèi)置高純石英倉體,容積為2升。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計和固態(tài)電源技術(shù),使其有效容積增大,不同真空 氣體環(huán)境下容易匹配,且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內(nèi),即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個面板上操作,特別適用科學(xué)實驗 樣品清洗 和教學(xué)。
滾筒等離子清洗機針對粉末或者顆粒的360度表面處理設(shè)備,通過旋轉(zhuǎn)機構(gòu)帶動石英攪拌罐使樣品處于懸空位置達(dá)到360度清洗。
設(shè)備型號 | 小號 | 中號 | 大號 | 滾筒 |
供電電源 | AC220V(AC110V可選) | |||
工作電流 | 整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵) | |||
射頻電源功率 | 333 | 333 | 333 | 150w |
射頻頻率 | 13.56MHz | |||
頻率偏移量 | <0.2MHz | |||
特性阻抗 | 50歐姆,手動匹配 | |||
耦合方式 | 電容耦合 | |||
真空度 | ≤100Pa | |||
腔體材質(zhì) | 高純石英 | |||
腔體容積 | 2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM) | 2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM) | 發(fā)發(fā)發(fā) | 發(fā)發(fā)發(fā) |
觀察窗內(nèi)徑 | Φ50 | Φ50 | Φ70 | 無 |
氣體流量 | 10—100ml/min(其他量程可選) | |||
過程控制 | 過程自動控制 | 過程自動控制 | 過程自動控制 | 過程手動控制 |
清洗時間 | 自動開關(guān) | |||
開蓋方式 | 鉸鏈側(cè)開式法蘭 | |||
外形尺寸 | 150*500*250mm | 450*460*370mm | 530*580*420mm | |
重量 | 222 | 22 | 222 | 40Kg |
真空室溫度 | 小于65°C | |||
冷卻方式 | 強制風(fēng)冷 | |||
標(biāo)配 | KF16真空管1米,kf16卡箍2個,不銹鋼網(wǎng)匣1個,電源線一根,說明書一本。 |